专利名称--【光刻机原位多通道成像质量检测装置及方法】

基本信息
申请号 CN201510325941.7 申请日 2015-06-15 公开(公开)号 CN106324996A 公开(公开)日 2017.01.11
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 申请人地址 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱
发明人 唐锋;李杰;王向朝;冯鹏;徐世福;卢云君 专利类型 发明专利
摘要 一种光刻机原位多通道成像质量检测装置及方法,该装置包括光刻机的光源、照明系统、掩模台、投影物镜、工件台和计算机,还包括物面光栅板、波像差传感器。利用该装置原位检测光刻机的成像质量:波像差、畸变与场曲,提高了成像质量检测的并行通道数和检测速度。
主权项 一种光刻机原位多通道成像质量检测装置,该装置包括光刻机的光源(1)、照明系统(2)、掩模台(4)、投影物镜(5)、工件台(7)和计算机(8),其特征在于,还包括物面光栅板(3)和波像差传感器(6),上述各部件的连接关系如下:所述的物面光栅板(3)置于掩模台(4)上,所述的波像差传感器(6)置于工件台(7)上,所述的波像差传感器(6)与计算机(8)相连;所述的物面光栅板(3)由n组占空比为50%的物面光栅组成;每组物面光栅包括光栅线沿y方向的第一光栅(3X1)和光栅线沿x方向的第二光栅(3X2),周期为PoX;所述的X为每组光栅的编号,用A、B、C…表示,如A组物面光栅的第一光栅3A1和第二光栅3A2,B组物面光栅的第一光栅3B1和第二光栅3B2;所述的波像差传感器(6)包括沿光束传播方向依次放置的像面光栅板(601)、小孔阵列(602)和二维光电传感器(603);所述的像面光栅板(601)包括n组占空比50%的像面光栅(601X),周期为PiX,所述X为每组光栅的编号,用A、B、C…表示;所述的第一光栅(3X1)和第二光栅(3X2)的周期PoX与所述的像面光栅(601X)的周期PiX满足如下关系;PoX=PiX·M其中,M为光刻机投影物镜(5)的成像放大倍数,PiX由剪切率sX、光源波长λ和光刻机投影物镜的数值孔径NA决定:<mrow><msub><mi>P</mi><mi>iX</mi></msub><mo>=</mo><mfrac><mi>&lambda;</mi><mrow><msub><mrow><mn>2</mn><mi>s</mi></mrow><mi>X</mi></msub><mo>&CenterDot;</mo><mi>NA</mi></mrow></mfrac><mo>;</mo></mrow>所述的物面光栅板(3)上每组物面光栅之间的间距do与像面光栅板(601)上每个像面光栅之间的间距di满足如下关系:do=di·M,物面光栅板(3)上每组物面光栅的第一光栅(3X1)和第二光栅(3X2)之间的间距相等,物面光栅的组数与像面光栅的数目相等,皆为n,所述的n为大于1的自然数。
IPC信息
IPC主分类号 G03F7/20(2006.01)I
IPC分类号 G03F7/20(2006.01)I
法律状态信息
法律状态公告日 2017.10.20 法律状态 授权 法律状态信息 授权
法律状态公告日 2017.02.08 法律状态 实质审查的生效 法律状态信息 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20150615
法律状态公告日 2017.01.11 法律状态 公开 法律状态信息 公开
代理信息
申请(专利权)人 中国科学院上海光学精密机械研究所 申请人地址 201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱
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